第二百四十三章 超紫外激光！波长1.5nm！功率2000w！（1）

    当北方的清晨亮起第一抹阳光，长春光机所地下实验室里，一场激动人心的实验，也终于开始了。

厽厼。激光发生器开始预热，这是全套光刻机台中最核心的部件之一，由中科光电院设计制造。

激光光源射出后，首先会进入光束矫正器，矫正器共有三组，调整光束入射方向，让激光束尽量保持平行。

调整完毕的平行激光，会进入能量控制器。

顾名思义，能量控制器是调节激光功率的存在，控制最终照射到硅片上的能量大小。

像芯片这样的高精密制造业，无论曝光不足或者过足，都会严重影响出片质量，所以能量必须收到严格的控制。

能量控制器之后，是光束形状设置器，它可以设置光束形态，呈圆型，环型，散射型等等不同的形状，而不同形态的激光，又有着不同的光学特性。

光束形状设置器尾部，还有一组遮光器，在不需要曝光的时候，遮光器会把光束拦下来，防止光束照射到硅片上。

再然后是能量探测器，这个东西主要是检测光束功率的，它无法单独使用，而是将检测信号回馈给能量控制器，配合能量控制器进行功率调整。

调整完毕的激光束，会穿过掩模版，进入物镜。

掩膜版也叫光罩，简单来说呢，它就是一块内部刻着线路设计图的玻璃板，给硅片曝光用的，你想要什么样的半导体设计线路，就定制什么样的掩膜版。m.9biquge．co厺厽。目前世界上，只有荷兰asml掌握双工作台技术，长春这个机台如果量产的话，将是世界第二名。

整套机台最底部，是内部封闭框架和减振器，它们负责将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持恒定的温度和压力。

这一点极其重要，毕竟是制造高精密芯片，哪怕最微小的震动，一粒尘埃，或者空气温度和湿度的差别，都有可能导致硅片曝光失败，或者前后两批芯片的性能不一致。

一台完整的光刻机，大体就是这样了。

听上去简单，其实却是人类历史上最复杂最精密的机台，没有之一。

放眼全球，能做到紫外的，只有asml，佳能，尼康三家，而能做到极紫外的，则只有荷兰asml，其余所有竞争对手，全部惨遭淘汰，消失在历史的长河中。

“开始！”

长春光机所的所长叫杜维明，随着他一声令下，全封闭绝尘实验室里，光刻机开始运行，大概也就十几秒钟过后，一片十二寸硅晶圆就被送下了机台。

其实，光刻机工作速度是很快的，每小时出片两百张以上，完全不存在任何问题。

制约产能的主要是沉积设备，pvd和cvd这类，其次是刻蚀设备包括icp，ccp，die这几种机台，另外热处理设备工作效率也十分感人。

一条月产能一万片十二寸晶圆的fab制造线，光刻机或许只有四五台，但刻蚀机，却起码要有六十台起步，如果想要追求高效率，甚至要堆一百台以上的刻蚀机。

目前，中微半导体的介质刻蚀技术，硅通孔刻蚀技术，位列全球前三，全球最牛的半导体代工厂台积电，生产线上就有成百上千台来自中微的刻蚀机，算是国产半导体行业里比较争气的存在。

“成了！”

“一次出片成功，比我预想的还要顺利！”

“不愧是昆仑集团啊，临时加进来的光学系统，竟然和旧机台配合的这么好！”

实验室里，穿着全套无尘服的工程师，取下十二寸硅晶圆，仔细看，会发现上面出现了密密麻麻，无比繁杂的线条，灯光下亮晶晶的，甚是喜人。